众所周知，芯片领域的“引擎”就是光刻机，但基于美国压力，当前ASML对中国限制出口的是最先进的EUV光刻机，该产品目前一共有两款，NXE3400B和NXE3400C。其中3400C是2019年量产的最先进EUV光刻机，主要生产7nm和5nm节点的EUV光刻机。根据ASML财报，2020年光刻机一共销售了258台，其中EUV系统31台，占销售总量的12%，但销售额占全年的43%。
数据来源：企业财报
虽然2020 年，中国占阿斯麦总销售额的 17%。不过，这些销售额只涉及老一代设备。
中国光刻机进展
被认为是中国最先进光刻机领军研究机构——长春光机所目前仍未达到28nm精度的DUV光源，完全自给自足的生产水平只在90nm，与先进水平有着较大差距。目前国内14nm水平实现国内自产，但产能有限，而且部分零部件仍然采用美国。
不过目前我国从机构到企业已经都在参与光刻机领域的分项研究，例如浙江大学在浸液系统研究，哈工大光源，北京科益虹源的激光器等等。
根据美国专家说法，中国芯片产业自给自足需要10年，投入至少10000亿美元。事实上，可能不止，仅ASML最先进的光刻机EUV就先后有多个发达国家花了几十年才做出来的，即便中国弯道超车，也不会再10年之内完全实现，在这一点上，中国不能好高骛远。
就光学系统来说，ASML所用的光源供货商只有一家，就是德国通快集团，他不仅是全球最大的机床加工企业，还是全球最大的激光企业，在世界光系统的市场份额超过30%，而EUV光刻最大的挑战之一是如何产生波长极短的13.5nm的光。为此，仅这一项技术，荷兰ASML联合两家德国企业花了好多年才研制出来。
虽然对我国来说光刻机之路任重道远，2021甚至可以说是最黑暗的一年，但这也是黎明前的黑暗，今年国产光刻机就能正式下线，这就是起航之时。